Project R-880

Titel

Demonstratiecel CVD technologie

Abstract

Taak 1: Uitbouwen van de GVD-apparatuur De CVD-technologie maakt gebruik van gassen. De gassen passeren de te bedekken onderdelen bij temperaturen van 400 tot 600°C waarbij eenchemische reactie plaatsvindt aan het oppervlak van de te bedekken onderdelen die aanleiding geeft tot de uiteindelijke deklaagvomling. Bedoeling zal zijn om te voorzien in een CVD-depositietoestel voorzien van alle veiligheidsmaatregelen. Het grote voordeel van dit proces is dat een vrij dikke laag met interessante eigenschappen qua corrosie- en slijtvastheid kan afgezet worden op complexe geometrieën. Taak 2: Technologieopbouw Bedoeling van deze taak is te komen tot het bepalen van die procesvoorwaarden die aanleiding geven tot de meest optimale eigenschappen. Bedoeling is vooral te werken met wolfram en wolframcarbide deklagen.

Periode

01 oktober 2002 - 31 augustus 2003