Project R-2548

Titel

Groei en karakterisering van boornitride lagen

Abstract

Het objectief van dit voorstel is het onderzoek naar de depositie van dunne boornitride films gebruik makend van "physical vapour deposition (PVD)" technieken. Focus zal gelegd worden op de twee hoofdvormen van dit materiaal, i.e. kubisch en hexagonaal boornitride. Boornitride (BN) is een nieuw "wide band gap" halfgeleider en vergeleken met een materiaal zoals CVD diamant, is de kennis zeer gelimiteerd. Naast verschillende openstaande vragen ivm het groeimechanisme, is over de onzuiverheden en defecten in dit materiaal weinig tot niets bekend. Naast het afzetten van lagen, is er een belangrijk deel karakterisering voorzien met de technieken die beschikbaar zijn binnen het Instituut voor Materiaalonderzoek. Naast structurele en morfologische karakterisering nodig om de verschillende vormen van BN te onderscheiden van elkaar, zullen opto-elektronische technieken gebruikt worden om de elektronische structuur en defecten in de film te bestuderen.

Periode

01 januari 2006 - 31 december 2009